Depunere chimică în fază de vapori
Depunere chimică în fază de vapori (simbolizat CVD, din engleză Chemical vapor deposition) este o metodă de depunere utilizată pentru producerea unor materiale solide de calitate înaltă, realizată de obicei sub vid. Metoda este adesea utilizată în industria semiconductorilor pentru producerea de filme subțiri.
Într-o metodă CVD obișnuită, plăcuța substrat este expusă unuia sau mai multor precursori volatili, care au rolul de a reacționa și a se depune pe suprafața substratului sub forma produsului dorit. De obicei se formează și produși secundari volatili, iar aceștia trebuie eliminați din camera de reacție.
Vezi și
- Amplificator operațional
- ASIC
- Celulă solară
- Colector solar
- Circuit integrat analogic
- Circuit integrat hibrid
- Circuit logic CMOS
- Diodă
- EPROM
- EEPROM
- EEPROM Serial
- Efect fotomagnetic
- Epitaxie
- Fotoelectrochimie
- Joncțiune p-n
- Memorie ROM
- Metodă Czochralski
- Panou solar
- NVRAM
- Plăcuță semiconductoare
- Rafinare
- Serigrafie
- Siliciu
- Tranzistor
- Tranzistor bipolar
- Tranzistor IGBT
- Tranzistor MOSFET
- Tranzistor unipolar
Referințe
This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.